CH-8000線上氨逃逸系統

CH-80000由原位抽取式安裝的氨逃逸NH3分析子系統構成│↟，線上監測點在工藝中所處的位置▩•·▩：

CH-8000是本公司在多年氣體分析產品研發基礎上設計的一款於脫硝系統線上監測的高效能線上檢測儀◕·。

CH-8000採用200°C高溫伴熱取樣✘₪✘✘、高溫測量技術│↟， NH3採用可調諧鐳射（TDLAS）測量技術◕·。

1.1 氨逃逸NH3分析子系統

鑑於脫硝系統出口煙道存在溫度高（350°C）✘₪✘✘、粉塵高✘₪✘✘、壓力波動大等問題│↟，綽美科技脫硝線上監測系統採用200°C高溫伴熱抽取模式│↟，如下圖▩•·▩：

高溫取樣泵的作用下│↟，氣體經探頭（含一級過濾器）✘₪✘✘、球閥✘₪✘✘、二級過濾器│↟，進入NH3分析模組│↟，測量NH3成分│↟，zui後排出◕·。整個流路高溫伴熱到200°C│↟，可以有有效避免水氣冷凝汙染流路│↟，以及銨鹽結晶堵塞流路◕·。

在探頭和球閥之間│↟，有一個壓力變送器和一個反吹隔膜閥│↟，壓力變送器實時監測該點的壓力│↟，如果壓力過低│↟，說明探頭堵塞│↟，系統將關閉球閥│↟，並啟動反吹隔膜閥脈衝反吹│↟，系統也可以控制反吹隔膜閥定時（1分鐘～數小時）自動反吹◕·。

在球閥和二級過濾器之間│↟，有一個校準隔膜閥│↟，系統可定時關閉球閥│↟，並啟動校準隔膜閥對系統進行校準◕·。

NH3的測量採用高溫TDLAS測量技術◕·。TDLAS是可調諧半導體鐳射吸收光譜技術的簡稱│↟，TDLAS也是一種吸收光譜技術│↟，可透過分析光被氣體的選擇吸收來測得氣體的濃度◕·。與傳統紅外光譜技術不同的是│↟，它採用的半導體鐳射光源的光譜線寬遠小於傳統紅外光源的光譜線寬和氣體吸收譜線的展寬◕·。鐳射線寬遠小於被測氣體單線吸收譜線寬度│↟，其頻率調製掃描範圍也僅包含被測氣體單吸收譜線│↟，因此避免氣體交叉干擾│↟，是目前線上測量NH3的*技術◕·。

CH-8000線上氨逃逸系統採用進口技術TDLAS技術的NH3分析模組▩•·▩：

內部佈局如下▩•·▩：

該子系統功能包括▩•·▩：

1✘₪✘✘、 實時抽取✘₪✘✘、實時測量✘₪✘✘、實時輸出（4-20mA和RS485）；

2✘₪✘✘、 定期反吹│↟，反吹週期可設│↟，系統可自動檢測探頭是否堵塞│↟，若堵塞可自動發起反吹；

3✘₪✘✘、 支援自動調零和自動量程校準│↟，週期可設；

4✘₪✘✘、 故障處理功能│↟，包括▩•·▩：溫控失效停止取樣✘₪✘✘、自動反吹保護等；

CH-8000線上氨逃逸系統技術特點為▩•·▩：

l 無伴熱管線✘₪✘✘、冷凝器和隔膜泵等易損部件│↟，系統中無任何運動部件│↟，可靠性高✘₪✘✘、響應時間短

l 整個氣體流路200°C高溫伴熱│↟，避免銨鹽結晶堵塞過濾器和管道✘₪✘✘、以及汙染分析儀氣體室│↟，免維護週期長

l 採用高溫抽取取樣測量NH3│↟，與原位法相比│↟，具有不受煙道內粉塵✘₪✘✘、溫度✘₪✘✘、壓力波動的影響│↟，可實現線上校準等優勢

該子系統技術指標為▩•·▩：

CH-8000線上氨逃逸系統

1 公用條件

1✘₪✘✘、 開孔│↟，用於安裝焊接法蘭│↟，具體要求參考圖紙；

2✘₪✘✘、 平臺和小屋▩•·▩：用於安裝和保護分析系統│↟，以及方便人員維護│↟，具體參考相關圖紙；

3✘₪✘✘、 壓縮空氣▩•·▩：清潔✘₪✘✘、乾燥並且無油（小於-20°C）@5-7公斤

4✘₪✘✘、 供電▩•·▩：220VAC, 3KW

2 供貨範圍

3 備品備件

3.1 隨機備件清單（滿足系統正常執行一年）

3.2 三年商業執行備品✘₪✘✘、備件清單